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第三百九十四章 与世界为敌

站在一处厂房外,所有人脸上都是带着笑容。

直播镜头前,由阿斯麦的工程师率先开口进行了介绍

“恐怕很多人都没想到,我们会直接放弃原本成熟的duv技术,直接从头开始的研发euv光刻机。”

一边说,他们还围绕着厂房一边走。

“或许从最开始,就没人看好euv光刻机,因为虽然理论上这能达到duv光刻机的十倍分辨率,但实在是太难了,难度太大,需要突破的瓶颈太多,对技术的需求极高,克服的难点数不胜数。”

一边说着他还一边打开了手环,形成了一个三维的全息投影简单的介绍道

“大家都知道光刻机的本质就是曝光,duv光刻机,我们还能找到对应的镜片让深紫外线通过,特别是后来安布雷拉的技术产出的新镜片,更是加强了这一点,安布雷拉自己的光刻机就是利用了这一点弯道超车,在不使用浸润法的情况下超过了我们的效率!”

阿斯麦没有去贬低安布雷拉,甚至还可以说在旁边吹嘘。

因为只有将安布雷拉的强大体现出来,才能说明他们更强!

这是一个强大的对手,但还是输了,输在了我们面前!

“但,这一点对euv光刻机却是不行,我们使用的13.5nm波长极紫外线电离能力极强,没有镜头可以适合这种精度下让这种高能光束通过,所以唯一可以选择的办法,只有反射!”

一边说着,全息图像上也进行了改变,讲解了一下大概的原理。

就是不断利用一些镜片的反射来完成对极紫外线的汇聚。

总共要完成十几次的反射才能达到最后的曝光要求!

本站域名已经更换为www.adouyinxs.com 。请牢记。“这对于反射镜片的精度需求可以说是极高的,要感谢卡尔蔡司公司在这方面的付出。”

说完就对旁边卡尔蔡司的工程师做出了一个请的手势。

卡尔蔡司公司的工程师也顺势站了出来礼貌的说道

“我们同样利用到了安布雷拉的技术涂层,不过当然,就精度方面,我们还是有点自信的……”

随后,阿斯麦的代表又介绍了他们的euv光源。

“之前说了,极紫外线需要通过十几次反射才能达到我们的效果,而因为极紫外线的电离消耗,每次反射都会损失大概30%左右的能量,最终我们能够有效利用的光只有大概2%,因此,我们需要光源有着足够且稳定的输出功率,为了克服这个问题cymer公司可是花费了整整十年的时间来攻克,不过cymer公司在三年前已经被我们公司完成了收购……”

一边说着,他一边继续外放了全息画面,里面连原理都出来了,就是用高能激光不断轰击液态金属滴,难度和精确度看着他提供的数据就让人头皮发麻。 本章未完,请点击下一页继续阅读! 第2页/共3页

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从低魔世界归来,先做人工智能
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