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第630章 国产1微米光刻机(第16更,吐血求订阅)

几天后,林棋看到蒙欣这段时间很清闲,不免纳闷。

“老婆,林蒙科技的1微米光刻机怎么样了?”林棋问道,“好几年了,去年听你说,就剩下少数几个关键的项目没攻克。”

对于蒙欣的能力,他自然是一百个放心,而且经过了长时间的磨合之后,原本那帮牛气冲天的各领域的天才,已经被调教的很好。

实际上,科研领域的人,虽然有不少弄虚作假的。但真正像新创业系或林蒙科技这种商业为主的研发投入,是绝对容不下弄虚作假。

资本对于回报率的重视,必然会用各种办法将假货、水货给排除在外。剩下的,自然就是真正有本事,能做项目的人。

这些人,自然是对水平比自己高的更加福气。

“实际上,已经成功了,过段时间验收完成,就会公布结果了。”蒙欣鬓发还有些散乱,说到这个立马露出几分自豪。

“真的?”林棋立马停住了筷子,这是个令人振奋的消息,光刻机技术一直都是国内市场的短板,长时间被国外把控。

光刻机的品牌众多,但真正的高精尖技术,一直都是技术难点,高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常在十几纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有7000万美金的光刻机。

高端光刻机堪称现代光学工业之花,制造难度相当大,放眼全球,能够生产的公司也不过寥寥几个,国外品牌主要以荷兰A**L(镜头来自德国),日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。

而我国的光刻机起步比较晚,此时只是在萌芽状态。在后世,国产的光刻机,基本上都是低端市场的产品!

很多人为国内的互联网公司骄傲,但却发现,支撑互联网和硬件的那些关键芯片,很多都不能够国产化。

而制造芯片,最关键的又需要光刻机,以及一系列配套的产业。

但光刻机是绝对是重中之重,自主掌握光刻机的制造和技术升级之后,一系列的半导体的产业,就开始有了根,能够真正的围绕着这种核心制造技术不断的发展,精研!

“我们光刻机,基本上整合了国内有想法有能力的团队,集中了全国最有理想的技术人员,以及跨行业跨学科的专家的廉价甚至无偿的技术支持。虽然,我们出钱,但是,国家实际上,也暗中支持了不少资源,没有举国之力,即使我有大量的未来资料,也不能将这种技术实用化!但是,这次出成果之后就简单了,一下子就把我们国家跟国际上的技术差距从十年以上,拉近到了不到3年。主流的技术厂商,比如日本的半导体工厂,用的光刻机就未必比我们先进,所以,激发了国内业界的斗志和信心。以后,再要由我们来主导这种技术攻关,就不是那么难了!” 本章未完,请点击下一页继续阅读! 第1页/共3页

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