为了简化，陆续诞生了电子管计算机、晶体管计算机、中小规模集成电路计算机、大规模集成电路计算机。

在这个发展过程中，计算机的体积不断缩小，能耗不断降低，运算速度不断加快，逐渐可以携带。

所以，芯片的由来，是为了缩小电路，加快运算速度。

而聊到电路，就要说一说模拟电路和数字电路，以及程序设计语言……

徐飞睡醒一觉，发现老学长们，已经讲到光刻机。

所谓的光刻机，跟福尔曼形容的差不多，就是一台‘胶卷曝光机’。

只是这台曝光机，十分先进，十分精密，从2寸底片，缩小到纳米级。

因此，曝光用的‘光源’，从灯泡缩小到激光，甚至射线、极紫外线。

相应的，分辨率也从几百万，上升到几亿像素。

胶卷的材质，扛不住这么集中的能量冲击，科学家便发明了‘掩膜板’。

然后用刻刀，把逻辑电路刻到‘掩膜版’上，形成类似剪纸的‘镂空’样式。

犹如在a4纸上剪出一个‘徐’字，贴在墙上，喷涂漆料，再揭走a4字，墙上便有了‘徐’字。

只是逻辑电路更复杂，就像在a4纸上写10万个‘徐’，和写10亿个‘徐’的难度，肯定不一样。

不仅要缩小字体，还要缩小字与字之间的距离。

这个距离，便是‘制程’，目前最先进的为128纳米。

刻画出‘掩膜版’，等于纳鞋底有了鞋印子。

接下来就是‘曝光’。

掩膜版上的线路，都是纳米级，若想让光线穿透的均匀，势必要用更细的‘光’，才能穿过刻画出来的线路，以便再照片上形成图桉。

因此，现在用的‘光源’，叫极紫外线，也有的在用射线。

跟柯达研究反应堆一个道理。

当极紫外线穿过掩膜版的缝隙，照射到下方的照片，也就是‘晶圆’，晶圆表面的光刻胶，就会出现一个逻辑电路的影子。

然后光刻胶凝固，晶圆的第二层‘氧化层’，则会出现一个逻辑电路的轮廓。

这个过程叫‘显影’。

有了轮廓，接下来就是‘刻蚀’。

犹如把刚刚喷吐在墙上的‘徐’字，抠出来，在墙上留下一个‘凹’下去的‘徐’，方便‘电子’在里面移动。

徐飞听得津津有味，眼看老学长不再讲，好奇道：“没了？”

“没了，就这简单。”

“那咱为啥造不出来？”

“你回忆一下这个过程，刻画掩膜版、制造射线级光源、精准到纳米级的曝光，还要确保掩膜版和晶圆上下对齐，避免错位的纳米级校对，以及在刻蚀过程中，包括曝光过程中，由于刻刀和镜头保持不动，机器操纵晶圆动来动去，一会加速，一会急停，一会旋转，对刻刀精度，对电机振动幅度，对后台控制系统稳定性的种种要求。” 本章未完，请点击下一页继续阅读！ 第2页/共8页